Асферическая оптическая линза из УФ-плавленого кварца
Асферическая линза из плавленого кварца, изготовленная из высокочистого плавленого кварца, имеет точную конструкцию, минимизирующую сферическую аберрацию и повышающую точность фокусировки. Она идеально подходит для коллимации УФ-лазеров, получения изображений высокого разрешения и прецизионных оптических измерительных систем.
Материал :
UV Fused SilicaРасчетная длина волны :
405nmДопуск на фокусное расстояние :
±1%Допуск на размеры :
+0/-0.05mmДопуск по толщине :
±0.1mmТочность поверхности :
λ/4@632.8nmКачество поверхности :
40-20Центрирование :
<3′
Описание продукта
Эта асферическая линза изготовлена из высококачественного плавленого кварца, устойчивого к УФ-излучению, что обеспечивает исключительную светопропускаемость (200–2200 нм) и минимальное термическое расширение для выдающейся оптической стабильности при работе с мощными УФ- или лазерными системами.Его асферическая конструкция поверхности эффективно уменьшает сферические и коматические аберрации, улучшая фокусировку луча и четкость изображения.Этот объектив идеально подходит для научных исследований, лазерной техники, оптической метрологии и промышленной визуализации. Он также доступен в вариантах с индивидуальными диаметрами, фокусными расстояниями и антибликовым покрытием.
Преимущества в производительности
Превосходная светопроницаемость: Обеспечивает превосходные оптические характеристики в диапазоне длин волн выше 200 нм.
Асферическая прецизионная конструкция: Минимизирует сферическую аберрацию и повышает качество изображения.
Низкий коэффициент теплового расширения: Обеспечивает стабильность в условиях воздействия мощного УФ-излучения или лазера.
Высокоточное производство: Обработка на станках с ЧПУ и в ИБФ обеспечивает точность поверхности λ/10.
Настраиваемые параметры: Доступны в различных размерах, фокусных расстояниях и с различными покрытиями.
Широкий спектр применения: Идеально подходит для лазеров, оптических приборов и прецизионной визуализации.
Область применения
Системы фокусировки и коллимации УФ-лазеров
Высокоточные приборы для получения изображений и оптической метрологии.
Оборудование для контроля качества полупроводников
Системы лазерной обработки и формирования лазерного луча
Оптические устройства для медицинских и исследовательских целей
Оптические системы связи и спектроскопические системы
Авторские права
@ 2026 Fujian Kire Optronics Co., LTD. Все права защищены
.
ПОДДЕРЖИВАЕТСЯ СЕТЬ
оставить сообщение
Отсканируйте QR-код для отправки в WeChat :
Отсканируйте в WhatsApp :